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レーザー・光治療を成功に導くスキンケア

 

プラスリストアについて

レーザー・光治療に25年以上携わり、 治療を知り尽くしているジェイメックが、 治療前後の肌に本当に必要なスキンケアを追求し、開発されたスキンケアブランド。 デリケートな肌に使用できる優しい成分で作られており、敏感肌の方からも支持されています。

 

こんな方におすすめ

・肌に優しい成分に

・こだわりたい 肌のゆらぎが気になる

・治療のアフターケアに

 

POINT1 

落とす。クレンジング&洗顔がワンステップで完了

 

肌に触れる回数や摩擦の刺激をできるだけ抑え、 毎日のクレンジングや洗顔時によるトラブルを起こり にくくします。また、6つのフリー処方で肌に負担の少ない成分を厳選しています※1。

 

・無香料

・無着色

・無鉱物油

・パラベンフリー

・アルコールフリー

・石油系

・界面活性剤フリー

 

キレート成分※2 メイク汚れを選択的にキャッチするため、しっかりメイクにもすっぴんにも使え

ます。肌トラブルを起こりにくくします。

 

※1すべての方に刺激が起こらないということではありません

※2テトラヒドロキシプロピルエチレンジアミン(洗浄成分)

 

POINT2

うるおす。有効成分がにきびや肌荒れを防ぎ、バリア機能の回復をサポート

 

両親媒性ビタミンE誘導体TPNa®※3 X グリチルリチン酸※4

 

※3 ビタミンE誘導体=dl-α-トコフェルリン酸Na(有効成分として)

※4 グリチルリチン酸2K(有効成分)

 

POINT 3

ととのえる。レーザー使用前後のデリケートな肌にも使いやすい

 

フラーレン※5肌をととのえ、すこやかに 保ちます。エイジングケア 成分※として注目されている成分です。ポリグルコサミン誘導体※7 保湿力に優れた成分で、しっかりと皮膚表面にとどまりバリア皮膜を形成、乾燥から肌を守ります。

 

※5 整肌成分として(ラジカルスポンジ)

※6 年齢に応じたお手入れ

※7 キトサンステアラミドヒドロキシプロビルスルホン酸Na

 

POINT4

守る。毎日使いたくなる日焼け止めで紫外線

 

4つのプロテクト機能

・UVA

・UVB

・近赤外線

・ブルーライト 

 

紫外線だけでなく、ブルーライトや近赤外線からも肌を守る日焼け止めです。しっとりなめらかな使い心地のミルクタイプ(SPF30 PA++)と、さらっとした使い心地のローションタイプ(SPF50PA++++)から選んでいただけます。

 

デリケートな肌を滞留型ベールで乾燥から守る、保湿乳液です。保水力と保湿・エモリエント効果に優れた特許成分「ポリグルコサミン誘導体(ポリグルコサミン+天然脂肪酸)(※1)」を配合し、乾燥した肌も使うたびにしっとりとうるおいます。また、低刺激で肌なじみを良くする製法(D相乳化法)を採用し、界面活性剤を最小限に抑え、油分を高配合してもベタつきが少なくクリーミーな使用感を実現しました。

 

レーザー・光治療後の敏感な肌にもご使用いただけるおすすめの保湿アイテムです。

 

    •    無香料、無着色、無鉱物油

    •    パラベンフリー、アルコールフリー

    •    パッチテスト、スティンギングテスト、ノンコメドジェニックテスト、アレルギーテスト済(※2)

 

※1 キトサンステアラミドヒドロキシプロピルスルホン酸Na(特許 第4394483号)

※2 すべての方にアレルギーやニキビ、皮膚刺激がおこらないというわけではありません。

 

ご使用方法

 

朝晩の洗顔、化粧水の後にスキンモイストWを使用してください。適量を手に取り、肌にやさしくなじませてください。

 

※開封後は、冷暗所で保管し、早めに使用してください。

 

成分

 

水、BG、グリセリン、パルミチン酸エチルヘキシル、ヘキサ(ヒドロキシステアリン酸/ステアリン酸/ロジン酸)ジペンタエリスリチル、ペンチレングリコール、リンゴ酸ジイソステアリル、水添パーム油、ステアリン酸ポリグリセリル-10、キトサンステアラミドヒドロキシプロピルスルホン酸Na、スクワラン、ホホバ種子油、マンダリンオレンジ果皮エキス、カルボマー、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、グルコシルセラミド、アミノカプロン酸、アラントイン、グリチルリチン酸2K、α-グルカン、TEA、フェノキシエタノール

Plus Restore スキンモイストW 50g

¥3,500価格
消費税込み |

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